1.高性能硬件配置：滿足嚴(yán)苛工業(yè)環(huán)境需求

高光譜分辨率與靈敏度：

iG50的光譜分辨率達(dá)0.5 cm?¹，信噪比（S/N）性能優(yōu)異，可實(shí)現(xiàn)百萬分之一（ppm）級低濃度組分檢測，同時(shí)準(zhǔn)確測量百分之一濃度的高濃度組分。

動(dòng)態(tài)對齊光學(xué)系統(tǒng)：

內(nèi)置動(dòng)態(tài)對齊光學(xué)控件，可抵御外部振動(dòng)和溫度波動(dòng)，確保光譜數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，減少人工校準(zhǔn)頻率。

模塊化設(shè)計(jì)：

支持可互換的光學(xué)和采樣接口模塊，可根據(jù)工藝需求靈活配置，適應(yīng)液體、氣體或固體樣品檢測。

2.實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集與反饋：無縫集成生產(chǎn)流程

快速掃描與雙檢測器采集：

掃描速度范圍廣（0.158至6.28 cm/sec），支持高速瞬態(tài)事件表征。雙檢測器采集功能可同時(shí)捕獲研究數(shù)據(jù)與多通道監(jiān)測信號，提升分析效率。

光纖探頭與遠(yuǎn)程監(jiān)測：

通過光纖連接流通池或浸入式探頭，可直接安裝于生產(chǎn)線關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)無時(shí)間延遲的實(shí)時(shí)測量。

工業(yè)協(xié)議兼容性：

支持Modbus、Profibus DP、OPC等工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)通信協(xié)議，可與DCS（分布式控制系統(tǒng)）或SCADA（數(shù)據(jù)采集與監(jiān)視系統(tǒng)）無縫對接，實(shí)時(shí)反饋質(zhì)量控制參數(shù)。

3.智能診斷與預(yù)測性維護(hù)：降低停機(jī)風(fēng)險(xiǎn)

內(nèi)置性能驗(yàn)證工具：

機(jī)載診斷工具可實(shí)時(shí)監(jiān)測光學(xué)元件狀態(tài)，并通過直觀界面或數(shù)字信號輸出至外部DCS系統(tǒng)。

預(yù)對準(zhǔn)替換部件：

光學(xué)元件采用預(yù)對準(zhǔn)設(shè)計(jì)，維護(hù)時(shí)無需重新校準(zhǔn)，可將停機(jī)時(shí)間縮短至較低。

環(huán)境適應(yīng)性優(yōu)化：

光學(xué)元件封裝于緊湊型不銹鋼外箱內(nèi)，符合19英寸6U工業(yè)機(jī)架標(biāo)準(zhǔn)，可安裝于生產(chǎn)線支架或控制柜內(nèi)。其防震設(shè)計(jì)和溫度控制功能，確保在惡劣工業(yè)環(huán)境中穩(wěn)定運(yùn)行。

4.應(yīng)用場景驗(yàn)證：覆蓋全產(chǎn)業(yè)鏈需求

工藝液體與氣體測量：

在半導(dǎo)體制造中，iG50可用于硅片表面污染物分析，通過高分辨率光譜識別納米級雜質(zhì)，確保晶圓良率。

連續(xù)排放監(jiān)測（CEM）：

在煙囪排放監(jiān)測中，iG50可實(shí)時(shí)分析SO?、NOx等污染物濃度，數(shù)據(jù)直接上傳至環(huán)保監(jiān)管平臺，滿足合規(guī)性要求。

在線薄膜分析：

在聚合物生產(chǎn)中，通過ATR（衰減全反射）附件實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜厚度與成分均勻性，優(yōu)化擠出工藝參數(shù)。

5.工業(yè)4.0生態(tài)協(xié)同：數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)決策

云平臺與邊緣計(jì)算集成：

支持Wi-Fi連接與云端數(shù)據(jù)共享，結(jié)合OMNIC Paradigm軟件的自動(dòng)化工作流程，可實(shí)現(xiàn)多生產(chǎn)線數(shù)據(jù)聚合分析。

全球技術(shù)支持網(wǎng)絡(luò)：

賽默飛提供方法開發(fā)、校準(zhǔn)轉(zhuǎn)移與質(zhì)保服務(wù)，確保iG50在全球不同工廠的標(biāo)準(zhǔn)化應(yīng)用。